Di fasiliti pembuatan cip, kita tahu bahawa perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pemanggangan bahan fotoresist sudah cukup untuk mengubah dimensi komponen elektronik tersebut, sehingga menyebabkan banyak wafer menjadi tidak boleh digunakan lagi. Kami telah mencipta lampu pemanas inframerah khas untuk mengatasi masalah ini.
Apa yang penting dalam sistem ini
Kami menggunakan tenaga inframerah gelombang pendek yang dikemas dalam selubung kuarsa. Ini memastikan haba disalurkan secara langsung dan efektif, serta mudah dikawal. Suhu yang dihasilkan oleh lampu ini kekal stabil pada tahap ±0.1°C, sekali gus mengelakkan perubahan suhu yang boleh menjejaskan proses penghasilan cip. Lampu ini digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dan pemantauan berkala memastikan tiada zarah berbahaya terbentuk. Ketepatan hasil penggunaan lampu ini kekal pada tahap 0.5% dari satu kitaran ke kitaran yang lain, manakala kestabilan termalnya pula berterusan lebih dari 5,000 jam dengan penurunan output kurang dari 5%.
Mengapa ia sesuai untuk proses litografi
Dalam proses litografi, kestabilan suhu yang tinggi ini membantu memastikan proses pemanggangan berjalan dengan sempurna. Kawalan ketepatan diameter cip juga menjadi lebih baik, dan keperluan untuk melakukan kerja ulang berkurangan kerana proses pemanggangan tetap konsisten setiap kali. Lampu ini dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, jadi masa pemanggangan dapat dipendekkan tanpa melebihi had suhu yang dibenarkan.
Kelebihan yang sama juga dapat dilihat dalam proses pembersihan dan pengeringan wafer. Pemanasan yang terkawal membantu mengurangkan kecacatan permukaan wafer. Selain itu, tenaga yang digunakan juga dapat dijimatkan kerana lampu ini memanaskan objek yang ingin dipanaskan sahaja, bukan dinding bilik tersebut.
Butiran praktikal yang perlu diperhatikan
Pemasangan lampu ini perlu dilakukan dengan tepat: penyesuaian optik perlu dilakukan dengan tepat, dan diperlukan sistem pengawalan kuasa yang efektif untuk mengelakkan gangguan yang boleh menyebabkan fluktuasi output. Lampu ini boleh digunakan bersama peralatan standard OEM, tetapi perlu merancang integrasinya dengan mempertimbangkan ruang termal dan perlindungan daripada gangguan elektromagnetik. Selain itu, perlu ada rancangan kalibrasi yang tetap – terutamanya setelah lampu diganti – agar ketepatan suhu tetap terjaga.