
Op de productielijn geldt dezelfde regels: een afwijking van 1°C tijdens het drogen van de fotoresist is al voldoende om de cruciale dimensies te veranderen, waardoor veel wafer’s onbruikbaar worden. We hebben onze halfgeleiderinfraroodverwarmingslampen ontworpen om deze onzekerheden voorgoed uit te bannen.
Wat belangrijk is voor de werking
We gebruiken kortegolf-infraroodlicht met een kwartsomhulsel. Hierdoor wordt de warmte rechtstreeks geleid – snel en nauwkeurig. Op het oppervlak van de wafer blijft de temperatuur binnen ±0,1°C stabiel. Dit voorkomt dat temperatuurverschillen de processtappen beïnvloeden. De lamp wordt gebruikt in schone ruimtes van klasse 1–100. Onderweg wordt continu gecontroleerd of er geen deeltjes worden geproduceerd. De herhaalbaarheid van de uitgangssterkte ligt binnen 0,5% per cyclus. De thermische stabiliteit blijft boven de 5.000 uur, met minder dan 5% daling in de uitgangssterkte.
Waarom dit goed werkt in de lithografie
In de lithografie zorgt deze stabiliteit ervoor dat de tijden voor het drogen van de fotoresist nauwkeuriger zijn. Hierdoor kan de kwaliteit van de producten verbeteren en hoeft er minder gerepareerd te worden. De lamp bereikt snel de gewenste temperatuur, zodat de droogtijd kan worden verkort zonder dat de fotoresist schade oploopt.
Deze stabiliteit heeft ook positieve effecten op het reinigen en drogen van de wafer’s. Gecontroleerde, gelijkmatige verwarming zorgt voor minder oppervlakdefecten. Bovendien wordt er minder energie verbruikt, omdat de lamp alleen het doeloppervlak verwarmt, en niet de wanden van de ruimte.
Praktische details die niet genegeerd mogen worden
De installatie moet perfect zijn: de optische alignering moet nauwkeurig zijn. Er moet ook goede stroomvoorziening zijn, zodat er geen storingen optreden. De lamp kan worden gebruikt in standaard OEM-opstellingen, maar er moet rekening worden gehouden met thermische ruimte en EMI-filtering. Ook moet er regelmatig gekalibreerd worden – vooral na het vervangen van de lamp – zodat de uniformiteit binnen de vereiste grenzen blijft.