LPCVD炉加热元件

LPCVD炉在生产线上运行时表现得如同一个高压容器，要求稳定的温度、严格的均匀性和零颗粒偏差。在多晶硅或氮化物沉积过程中，任何一次温度偏差都会导致整个批次的厚度不均匀。热点会使紧邻的光刻胶烘烤模块中的光刻胶轮廓偏离目标。炉内加热元件不仅是背景设备，更是决定热预算重复性的热学工具。 红外加热提供了直...