在制造车间里，软烘和硬烘过程都是至关重要的步骤——温度控制并非可以通过调节旋钮来实现的，而是一种必须严格遵守的边界条件。如果晶圆在烘烤过程中的温度变化超过2℃，就会导致其关键尺寸发生变化；而腔室中的哪怕一颗微粒都可能毁掉一块300毫米大小的晶圆。我们设计的这种高温炉，就是为了解决这些问题而制造的，...

LPCVD炉在生产线上运行时表现得如同一个高压容器，要求稳定的温度、严格的均匀性和零颗粒偏差。在多晶硅或氮化物沉积过程中，任何一次温度偏差都会导致整个批次的厚度不均匀。热点会使紧邻的光刻胶烘烤模块中的光刻胶轮廓偏离目标。炉内加热元件不仅是背景设备，更是决定热预算重复性的热学工具。 红外加热提供了直...