ゾーン型ウェーハ乾燥用赤外線パネル

ファブの現場では、5nmプロセスでは、わずかな誤差も許されません。ウェーハ上の0.3℃の温度差だけで、CD値が変わってしまい、エッチング後にフォトレジストの残留物が残ってしまいます。また、従来の乾燥方法では、端部分が依然として湿った状態になります。回転式の乾燥方法では溶剤が無駄に使われ、粒子の発生...